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热门标签: 清洗机   半导体设备   湿法工艺   晶圆清洗   ETCH   CLEAN  

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产品摘要:

半导体晶圆槽式清洗机的工作原理是利用各种化学药液与半导体器件表面的各种杂质、粒子发生化学反应生成溶于水的物质,再用高纯水冲洗,依次除去半导体器件表面的污染物。


产品描述

在清洗过程中,通常采用超声清洗,通过超声波在液体中产生的空化效应来实现清洗。具体来说,超声波发生器将电能转换为高频机械振动,产生一系列高频(通常在 20kHz 至 40kHz)的声波。这些声波通过换能器传递到清洗槽中的清洗液中,使清洗液中的微小气泡迅速膨胀并瞬间破灭,从而产生强烈的冲击力和冲刷作用

此外,半导体晶圆槽式清洗机还可以配备加热系统、过滤系统、循环系统等辅助设备,以进一步提高清洗效果和工作效率